Scrubber

Model: SCR

Application: Single Wafer Spin Scrubber

Tool Specification:

Wafer Size: 4"/ 6"/ 8"

Process Chamber: 1ea

Hi-jet clean nozzle : Fan type or Needle type

Hi jet pressure : 750~3000psi(Depend on Process requirement)

2-Fluid cleaning

Brush or Megasonic cleaning(Optional)

N2 Blow drying

Water mark free 、 Scratch free

Dry in/ Dry out

PA Specification: <30ea@0.2um

Control interface: HMI

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